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MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制MLCC全稱為Multi-layerCeramicCapacitors，即片式多層陶瓷電容器，是全球用量最大的片式元件之一，因其具備體積小、容量大等特征，被廣泛應(yīng)用于消費(fèi)類電子、家用電...

CMPSlurry均一性的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制化學(xué)機(jī)械拋光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技術(shù)被譽(yù)為是當(dāng)今時(shí)代能實(shí)現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面平坦化的重要技術(shù)，CMP的效果直接影響到晶圓、芯...

粒度儀可分為納米粒度儀，激光粒度儀，單顆粒光阻法粒度儀和圖像粒度儀等。粒度儀是用物理的方法測試固體顆粒的大小和分布的一種儀器。根據(jù)測試原理的不同分為沉降式粒度儀、沉降天平、激光粒度儀、光學(xué)顆粒計(jì)數(shù)器、電阻式顆粒計(jì)數(shù)器、顆粒圖像分析儀等。廣泛...

均一性與穩(wěn)定性控制佐劑（Adjuvant）又稱免疫調(diào)節(jié)劑或免疫增強(qiáng)劑（Immunepotentiator），是作為疫苗的一種添加劑，當(dāng)它先于抗原或與抗原混合注入機(jī)體后，能夠增強(qiáng)機(jī)體對抗原的免疫應(yīng)答或者改變免疫反應(yīng)的類型，屬于非特異性的免疫增...

摘要：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是一種廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓加工，通過結(jié)合化學(xué)力和機(jī)械力對晶圓表面進(jìn)行拋光、平坦化。CMPSlurry（拋光液/研磨液）是用于CMP工藝中的重要原料，通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易...

如何把固體含量轉(zhuǎn)換成顆粒濃度我們知道標(biāo)準(zhǔn)粒子（顆粒類標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)）中的粒度標(biāo)準(zhǔn)粒子，其證書上只有固液質(zhì)量占比的參數(shù)，也就是固含量。但是有時(shí)候我們想知道不同粒徑標(biāo)粒的每毫升的顆粒濃度，除了使用顆粒計(jì)數(shù)器來檢測之外，我們還可以通過固含量與顆粒濃度的...

標(biāo)準(zhǔn)粒子在過濾系統(tǒng)中的應(yīng)用關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)粒子；過濾器；顆粒計(jì)數(shù)器靜脈輸液給藥是一種藥物不經(jīng)任何生物屏障直接進(jìn)入人體血液循環(huán)系統(tǒng)的給藥方式，在我國應(yīng)用普遍。在輸液過程中引入的不溶性微?？沙蔀檎T發(fā)心腦血管病、肺栓塞的危害因素，所以微粒污染問題已受...

標(biāo)準(zhǔn)粒子在光散射研究中的應(yīng)用關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)粒子；米氏散射光的散射（scatteringoflight）是指光通過不均勻介質(zhì)時(shí)一部分光偏離原方向傳播的現(xiàn)象。偏離原方向的光稱為散射光。散射光頻率不發(fā)生改變的有瑞利散射、米氏散射和大粒子散射；頻率發(fā)...