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簡(jiǎn)要描述：· CMP中大粒子（LPC）監(jiān)控· CMP中研磨液在線粒度表征· 納米復(fù)雜制劑中在線粒度表征· 濕化學(xué)品（wet chemical）中顆粒物的在線檢測(cè)· CMP 漿料（研磨液）的磨損監(jiān)控· 納米*材料生產(chǎn)過(guò)程中粒度監(jiān)控
更新時(shí)間：2025-09-04廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家產(chǎn)品型號(hào)：訪 問(wèn) 量：57 Why online？ 為什么用在線？ | 省錢(qián)！ |
How？ 如何省錢(qián)？ | 提高良品率！ 提高過(guò)濾器的利用率，提高過(guò)濾器的使用壽命，減少宕機(jī)時(shí)間。 |
How？ 如何提高良品率？ | 快速揪出晶圓劃痕的元兇?尾端大粒子，Large Particle Count(LPC)0.15-20μm。 CMP制程中Slurry的LPC及其容易變化，如外來(lái)污染，由于化學(xué)環(huán)境、CMP傳遞運(yùn)輸系統(tǒng)，泵的輸送，因剪切力的改變而導(dǎo)致的粒子聚集。slurry本身就不穩(wěn)定。所以控制CMP slurry的尾端大顆粒（LPC）對(duì)提高CMP良品率至關(guān)重要。 |
Who should use？ 誰(shuí)應(yīng)該使用？ | 研磨液(Slurry)的生產(chǎn)商，CMP SDS系統(tǒng)集成供應(yīng)商，芯片IDM生產(chǎn)企業(yè)或晶圓代工廠 |
Where to use？ 在哪里使用？ | POU 端監(jiān)控過(guò)濾效率，過(guò)濾前和過(guò)濾后。 選擇合適的過(guò)濾器。 確保CMP工藝前CMP slurry中具有可控的LPC的量。 |
產(chǎn)品介紹 | INTRODUCTION
AccuSizer® Mini在線液體顆粒計(jì)數(shù)器，不僅能根據(jù)客戶需求靈活匹配功能模塊進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測(cè)，還具備LE400、FX和FX Nano等多種傳感器選項(xiàng)，以應(yīng)對(duì)不同檢測(cè)范圍和濃度需求。 借助單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)（Single Particle Optical System，SPOS），該系列產(chǎn)品能夠高精度地檢測(cè)遠(yuǎn)離主峰的幾個(gè)PPT水平標(biāo)準(zhǔn)差的LPC分布，并快速統(tǒng)計(jì)數(shù)十萬(wàn)個(gè)粒子，為生產(chǎn)過(guò)程提供真實(shí)可靠的數(shù)據(jù)支持。 針對(duì)研磨液（Slurry）濃度高的特點(diǎn)，AccuSizer® Mini系列在線液體顆粒計(jì)數(shù)器可配置原液進(jìn)樣、一步稀釋、二步稀釋模式，適應(yīng)多種樣品類型。其自動(dòng)化樣品混合倉(cāng)和傳感器清洗功能確保了數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和一致性。 AccuSizer® Mini專為工業(yè)生產(chǎn)線設(shè)計(jì)，可通過(guò)PLC設(shè)備與企業(yè)LIMS系統(tǒng)集成，實(shí)現(xiàn)高效控制和監(jiān)控。 |
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實(shí)時(shí)監(jiān)控大顆粒數(shù)量（LPC） | 提高CMP制程良品率 |
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì) | HIGHLIGHT
應(yīng)用領(lǐng)域 | Application | 功能和優(yōu)勢(shì) | Features & Benefits | ||||
CMP slurry（研磨液）、復(fù)雜納米制劑、墨水等需要監(jiān)控大粒子數(shù)量（Large Particle Count）的領(lǐng)域 | 不同于LAB的設(shè)計(jì)理念，符合在線產(chǎn)品的需求。 | ||||
全自動(dòng)化和模塊化設(shè)計(jì)理念，大大減少維護(hù)成本和周期。 | |||||
自動(dòng)稀釋，專為用于高濃度的研磨液（slurry）的顆粒計(jì)數(shù)而設(shè)計(jì)。 | |||||
SPOS單顆粒計(jì)數(shù)技術(shù)，可對(duì)150nm的粒子進(jìn)行量化計(jì)數(shù)。 | |||||
512通道的超高分辨率?？梢粤炕瘶O少數(shù)LPC。 | |||||
FX系列專為氧化鈰而設(shè)計(jì)，相對(duì)于LE/LS SPOS來(lái)說(shuō)，F(xiàn)X系列有超過(guò)200倍的檢測(cè)濃度。 | |||||
自動(dòng)稀釋加持下，可對(duì)106/ml的濃度進(jìn)行計(jì)數(shù)！ | |||||
SPOS 單顆粒計(jì)數(shù)技術(shù) | 150nm 進(jìn)行量化計(jì)數(shù) | 512 通道的超高分辨率 | 106/ml 計(jì)數(shù)濃度 | ||
儀器原理 | PRINCIPLE
多種傳感器 | Multiple Sensors | ||
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SPOS(LE+LS) 單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)原理示意圖 AccuSizer Mini LE 系統(tǒng) | SPOS(Focus Beam+LE) 聚焦光束計(jì)數(shù)技術(shù)原理示意圖 AccuSizer Mini FX 系統(tǒng) | Focused Beam+LS 聚焦光束納米計(jì)數(shù)技術(shù)原理示意圖 AccuSizer Mini FX-Nano 系統(tǒng) |
儀器參數(shù) | SPECIFICATION
性能規(guī)格 | AccuSizer Mini LE 系統(tǒng) | AccuSizer Mini FX 系統(tǒng) | AccuSizer Mini FX-Nano 系統(tǒng) |
分析方法及原理 | SPOS（LE+LS） | SPOS（Focus Beam+LE） | SPOS（Focus Beam+LS） |
粒徑檢測(cè)范圍 | 0.5-400μm | 0.65-20μm | 0.15-200μm |
傳感器極限濃度 | 10,000顆/mL | 106顆/mL | 106顆/mL |
樣本量 | 最小10mL | ||
精度 | 1μm PSL標(biāo)準(zhǔn)粒子粒徑平均值±10% | ||
測(cè)量時(shí)間 | CMPslurry（研磨液） (Silicon)、墨水、納米乳 | CMPslurry （研磨液）（Cerium） | CMPslurry（研磨液） （納米級(jí)Silicon） |
安裝要求 | |||
電源 | 3相電源插座（IEC C14插座）、100至240VAC最大功率5安培 | ||
壓縮空氣或氣體 | 1/4’’push on、3.5至5.6 kg/cm2、50至80 psi | ||
水 | 1/4’’flare、1.8 to 2.5 kg/cm2、25至35 psi | ||
進(jìn)樣 | 1/4’’flare、0.2 to 2.1 kg/cm2、3至30 psi | ||
排液 | 1/4’’flare、零壓力排放 | ||
尺寸 | 863.6mm*355.6mm*279.4mm（34’’* 14’’* 11’’） | ||
注：
1. 實(shí)際配置可能隨系統(tǒng)升級(jí)發(fā)生改變，以成交時(shí)信息為主；
2. SPOS，Single Particle Optical Sizing光學(xué)單顆粒傳感技術(shù)；
3. LE，Light Extinction, 光阻法；
4. FX, Focused Beam，光聚焦單顆粒計(jì)數(shù)技術(shù)；
5. LS，Light Scattering，光散射。
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